抓取结果

思锐奇系统官网 首页 产品 scia Systems 靶材蒸发材料与Bonding技术 PECVD（化学气相沉积）和等离子体监测过程控制系统 离子束刻蚀系统 scia Mill 150 scia Mill 200 scia Mill 300 离子束抛光刻蚀机 scia Trim 200 scia Finish 1500 scia Trim 300 离子束溅射镀膜机 scia Coat 200 scia Coat 500 scia Opto 300 磁控溅射镀膜系统 scia Magna 200 scia Multi 300 scia Magna 500 离子源 scia 微波离子源 MW系列 scia 射频离子源 RF系列 化学气相沉积与反应离子刻蚀系统PECVD/RIE scia Cube 300 scia Cube 750 电子束蒸发掠角沉积系统 scia Eva 200 溅射靶材（Sputter- Target） 靶材Bonding技术 微波等离子体源MIRO-200-CI 等离子体监测和过程控制系统 应用 新闻 关于 联系 首页 产品 scia Systems 离子束刻蚀系统 离子束抛光刻蚀机 离子束溅射镀膜机 磁控溅射镀膜系统 离子源 化学气相沉积与反应离子刻蚀系统PECVD/RIE 电子束蒸发掠角沉积系统 靶材蒸发材料与Bonding技术 溅射靶材（Sputter- Target） 靶材Bonding技术 PECVD（化学气相沉积）和等离子体监测过程控制系统 微波等离子体源MIRO-200-CI 等离子体监测和过程控制系统 应用 新闻 关于 联系 scia Systems 我们的系统设计灵活且模块化。这使我们能够为客户提供标准和个性化的解决方案。 more > 离子束刻蚀系统 离子束抛光刻蚀机 离子束溅射镀膜机 磁控溅射镀膜系统 离子源 化学气相沉积与反应离子刻蚀系统PECVD/RIE 电子束蒸发系统 more > 靶材蒸发材料与Bonding技术 所提供多范围的高性能薄膜涂层材料应用范围广，例如大面积涂层、精密光学、触摸屏和装饰涂层。 more > 溅射靶材（Sputter- Target） 靶材Bonding技术 more > PECVD（化学气相沉积）和等离子体监测过程控制系统 工艺控制在工业等离子应用中至关重要，以确保工艺的可靠性和高质量。在这里，光谱法是首选技术，因为它不会影响等离子体，并且可以实时监测多种等离子种类。系统是一种基于光谱法的等离子体监测系统，具有分析、优化和控制等离子体应用所需的所有功能。 more > 等离子体监测和过程控制系统 微波等离子体源MIRO-200-CI more > 应用 我们的设备主要应用于MEMS和精密光学元件的生产，同时也应用于天文学和生物医学技术。 more > 联系电话 0512-68356127 电子邮箱 info@3keysystems.com 公司地址 苏州市高新区珠江路900号1号楼207B Copyright © 2023版权所有   思锐奇系统（苏州）有限公司  苏ICP备2023029254号-1 法律声明 网站地图 友情链接 工商业储能 首页 电话 留言 顶部 您可以填写下面的资料留言给我们，我们会尽快回复您。 姓名 电话 邮箱 公司 信息

网站标题

思锐奇系统官网

关键词

思锐奇系统,思锐奇

站点描述

为真空技术服务开发和销售于一体的全面化发展企业，为全球微工艺制造、精密光学领域提供解决方案。